镍电铸通用的工艺流程如下：母型前处理～清洗一电铸镍一出槽清洗一母型脱出一型腔质量检查一型腔镀铬(选择采用)。
母型的前处理包括对母型的外观与设计的符合性的检查。对于金属母型，和铜电铸一样，要常规除油和弱酸活化。对于非金属母型，则要按照前面介绍的非金属表面金属化的方法使表面导电化。
由于镍的自钝化性能较强，中间断电很容易出现镀层分层，所以电铸过程中出槽观察要特别小心。尽量少将电铸中的制品取出槽外观察，并且取出时也不要清洗，出槽时间不要过长。然后带电下槽继续电铸。
①氨基磺酸镍工艺。最常用的镍电铸工艺是低应力和有较高沉积速度的氨基磺酸镍电铸工艺，其组成和工艺见表。
氨基磺酸镍镀液的组成和工艺
成 分    工艺参数    镀液中的作角
氨基磺酸镍
硼酸
表面活性剂
pH值
温度
表面张力    450～500g／L
35～40g／L
1．5ml/L
3.5±2
30～50℃
(33±3)dyn／cm    提供镍离子
pH值的缓冲
表面张力调整
电流效率、电流密度的稳定性
离子的扩散
防止气体的聚集
注：1dvn=10—5N．
②硫酸盐电铸镍工艺。硫酸盐电沉积镍是当代镀镍的主流工艺。这种镀液以硫酸镍为主盐，氯化物、硼酸等为辅助添加物，加上各种镀镍添加剂技术，可以获得各种性能的镀镍层，在镍电铸中也有着广泛的应用。
硫酸镍    250～350g／L
温度    45～65℃
氯化镍    35～50g／L
电流密度    3～10A／dm2
硼酸    30～45g／L
阴极    移动或空气搅拌
pH值    3．O～4．2
这种镀镍液比氯化铵型的沉积速度要高。在较低温度下也能在较高电流密度下工作。镀液分散能力也较好，且pH值的缓冲能力也较强，是通用的电铸液。