化学抛光的特点：
1.可用于机械抛光甚感困难或无法加工的制作。 如形状、结构比较复杂，具有不规则凹、凸结构的制件，狭小缝隙或孔洞的内表面，精细薄小的制件等。
2.一般为简单的手工操作，操作方法简单，容易掌握。
3.抛光后的制件，表面粗糙度非常均匀一致，其均匀性超过机械抛光和电抛光。
4.作业时劳动强度小，无噪声和粉尘污染，但存在一定的化学污染。
5.被抛光表面的光亮度，可通过选用不同的工艺规范来控制。
6.对某些光亮度要求很高的制件，仅用化学抛光不容易达到要求，通常化学抛光的光亮度不及机械抛光，有时化学抛光后还需机械抛光。
7.化学抛光前，必须对抛光进行彻底清洗，包括除油污和除锈蚀
8.工艺的专用性较强。
化学抛光与电化学抛光相比有以下优缺点：
优点：
1.设施与设备的费用小；
2.生产效率高，易进行批量生产；
3.操作简单，抛光时间短；
4.与被抛光物件的形状无关；
5.抛光成本低。
缺点：
1.抛光后的光亮度比电抛光的差；
2.镀液的管理与控制比较困难；
3.抛光前的处理要求比较严格；
4.自动化操作比较困难。