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其它杂质对氧化膜的影响
作者:东莞电镀厂  文章来源:深圳电镀厂原创  点击数 127  更新时间:2012-5-16 9:11:59  文章录入:admin

 

其它杂质对氧化膜的三种影响:

(1)CL-、F-、NO3-等含量,能使膜层孔隙增加使膜层疏松、粗糙,甚至于发生局部腐蚀,允许含量为CL-<100mg/L F-<50mg/L,当超过这一极限时很难形成合格膜层,甚至会发生穿孔而报废,CL-主要来源于水源。

(2)cu2+>100mg/L时;膜层出现暗色条纹和黑色斑点。可加入少量HNO3或适量铬酸降低cu2+对膜层质量的影响。当cu2+含量较高时,可用直流低电流处理:0.1-02A/dm2左右,定期清洗阴极板表面沉积物。(cu2+等高电位金属离子)

(3)Si不溶解悬浮物,以褐色粉状物吸附在阳极工件表面产生斑点,可过滤除掉。

(4)压缩空气带来的油脂,影响膜的正常生长,可发生局部侵蚀,或进入孔隙使膜层出现斑痕,影响着色。